我們的服務(wù)符合學(xué)術(shù)規(guī)范和道德
專業(yè) 高端讓您使用時(shí)沒有后顧之憂
IEEE T APPL SUPERCON是IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY期刊的縮寫。IEEE T APPL SUPERCON期刊的出版地是UNITED STATES,主要的研究方向是工程技術(shù)-工程:電子與電氣。
IEEE《應(yīng)用超導(dǎo)學(xué)報(bào)》(TAS)包含了關(guān)于超導(dǎo)應(yīng)用和其他相關(guān)技術(shù)的文章。電子應(yīng)用包括使用薄膜和有源器件(如約瑟夫森結(jié))的模擬和數(shù)字電路。大規(guī)模應(yīng)用包括用于電機(jī)和發(fā)電機(jī)等電力應(yīng)用的磁鐵、用于磁共振、加速器和用于電力傳輸?shù)入娎|應(yīng)用。
該刊的1075,發(fā)行周期是Quarterly,從官網(wǎng)http://ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=77上查到本刊的通訊地址是IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141,投稿地址是http://mc.manuscriptcentral.com/tas-ieee。網(wǎng)友對(duì)該刊的審稿速度給與的評(píng)價(jià)是平均3.0個(gè)月,錄用比一般是容易。